原位紅外漫反射系統(tǒng)

         原位紅外反應系統(tǒng)是利用傅里葉變換紅外光譜儀對催化劑或物料在多環(huán)境下的性能進行原位評價的設備。可方便地跟蹤鑒定反應中間態(tài)和產物，從而為催化反應體系反應機理的考察給出直接的證據。原位紅外漫反射主要用于氣固相催化的表征和催化反應的研究，如催化劑表面羥基的鑒別、催化劑表面物種吸附態(tài)研究、催化劑表面酸堿性的表征。該反應系統(tǒng)可應用于真空到高壓環(huán)境，溫度高達500°C（真空下），是研究多相催化、氣固相互作用、光化學反應和氧化機理等方向的理想選擇。目前已應用于光催化降解氣相有機物、熱催化（CO+H2、CO2+H2）等領域的氣固界面反應的紅外光譜研究。

高溫高壓漫反射池：

池體主要采用316L不銹鋼材質，最高耐溫500℃，耐壓3Mpa；/  哈氏合金材質，最高耐溫800℃，耐腐蝕；

反應池可以配備高精度觸摸屏溫控儀進行精確控溫和加熱，同時利用冷卻循環(huán)裝置對反應池外部進行降溫；

反應池腔帽有三個窗口，其中兩個為紅外窗口，另一個為石英窗口，用于引入外部光源（光催化激發(fā)光源）或作為觀察窗口使用；

提供三個入口/出口，用于抽空池體和引入氣體,可在反應池中形成VOCs、CO2等反應氣,反應尾氣先通入安全瓶再經特定溶液吸收后排至室外,各路氣體均通過質量流量計來控制流量,反應氣路操作界面方便友好，易于操作；

可定制各類光學窗口，可選配高溫拉曼池蓋。

高低溫漫反射池：

設計溫度：-150℃~300℃；

設計壓力：負壓（-150℃~RT），3MPa（RT~300℃）；

池體材質：池體池蓋 316L； 

窗片材質：石英；

溫控裝置：程序控溫、觸摸屏操作（含配套軟件）；

裝置設置進出氣口，可通入氣體；

預留水冷接口，配水冷機，對池體外側溫度進行保護；

配備液氮罐液氮泵，控制液氮流速；

需配機械泵/分子泵及相應管路配件，抽真空(降低窗片結霜情況及保護低溫區(qū))；

配氣體吹掃管路，在池體外側進行氮氣吹掃。

等離子體漫反射池：

設計溫度：常溫/RT~300℃；

設計壓力：常壓；

產品材質：PEEK+陶瓷；

光照窗片：石英；

紅外窗片：ZnSe*2；

電極：中心高壓銅電極、環(huán)形銅電極；

裝置設置進出氣口，可通入氣氛。