背景介紹

　　隨著科技不斷進步，人們對材料性能的要求也越來越高。然而，在極端溫度條件下，很多材料的性能會發(fā)生變化。因此，研究材料在高溫下的行為變得尤為重要。近年來，超高溫原位XRD裝置在材料科學研究中的應用越來越廣泛，為揭示材料變化的秘密提供了重要的工具。

　　技術(shù)原理

　　超高溫原位XRD裝置利用X射線衍射技術(shù)，通過測量材料中X射線的散射模式來確定材料的結(jié)構(gòu)和相變行為。超高溫原位XRD裝置具有高溫穩(wěn)定性，能夠在極端溫度下進行測量，確保材料在高溫下的變化過程真實可靠。

　　實驗應用

　　超高溫原位XRD裝置目前在物理、化學、材料科學以及各種工程技術(shù)科學中得到了廣泛的應用。

　　1200℃原位XRD高溫池

　　合肥原位科技有限公司多年來潛心研發(fā)原位XRD技術(shù)，突破各項技術(shù)壁壘，現(xiàn)推出1200℃原位XRD高溫池，應用于常壓、高溫氣固相化學反應的原位XRD測試與表征。

　　基本參數(shù)

　　① 池體材質(zhì)：哈氏合金C276(內(nèi)嵌陶瓷)/SUS316電鍍(內(nèi)嵌陶瓷);

　?、?窗口：進口PI膜/鈹窗;

　?、?控溫精度：±0.1℃;

　?、?溫度均勻性：±1℃;

　?、?池體外表面溫度：≤40℃;

　?、?氣氛：可通氣氛;

　　⑦ 水冷配置：1200W循環(huán)水冷機;

　?、?溫控配置：焦耳加熱電源系統(tǒng)，程序控溫，觸摸屏操作(含配套軟件);

　　基本配置

　　加熱系統(tǒng)：產(chǎn)生高溫并與樣品臺及樣品臺內(nèi)樣品進行有效熱交換;

　　氣管及接頭：用于客戶端氣路連接;

　　溫控系統(tǒng)：便于對反應池 內(nèi)樣品溫度進行控制;

　　冷卻循環(huán)系統(tǒng)、1200W循環(huán)水冷機：通過低溫循環(huán)冷卻 液對反應池殼進行冷卻降溫處理。(高溫 XRD 反應池及其附件工作溫度為室溫-1200℃。)